Отечественное ПО для литографа разрабатывается в СПИНТех

Производство изделий микроэлектроники с использованием фотошаблонов экономически целесообразно при больших объемах продукции. Современная фабрика рассчитана на ежемесячный выпуск 30 тыс. пластин диаметром 300 мм, а это сотни миллионов кристаллов. При малых объемах выпуска комплект фотошаблонов (см. рис. 1.) может быть в несколько раз дороже производства кристаллов. Например, стоимость комплекта фотошаблонов для проектных норм в 90 нм. приближается к 1 млн. долл. 

Чтобы нивелировать затраты на фотошаблоны, некоторые производители, выпускающие малые партии продукции, предлагают выполнение заказов многих клиентов на одной полупроводниковой пластине – так называемый multi-module project или multi-project. Благодаря такому подходу затраты на изготовление фотошаблонов удается распределить между всеми заказчиками. 

Полностью исключить процесс изготовления фотошаблонов позволяет только безмасочная литография (см. рис. 2.). Основу безмасочной литографии составляет генератор изображений, луч которого "рисует" на кремниевой платине нужную топологию. Институт СПИНТех ведет работы по разработке отечественного программного комплекса для управления установкой безмасочной рентгеновской нанолитографии (ПКБРН). На сегодняшний день разработаны: функциональные схемы и алгоритмы и пример программной реализации ПКБРН.

Напомним, что с конца 2021 г ученые МИЭТ выполняют НИР по созданию безмасочного отечественного фотолитографа - см. https://www.miet.ru/news/143217.